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ASML EUV光刻機(jī)砍單

來源: | 發(fā)布日期:2022-07-22 瀏覽量:

7月21日消息,由于市場(chǎng)預(yù)期下滑,ASML大砍EUV光刻機(jī)的出貨量預(yù)期,將原本計(jì)劃出貨55臺(tái),縮減到了40臺(tái),減少了近150億的營收空間!

今年,全球半導(dǎo)體市場(chǎng)從產(chǎn)能緊張已經(jīng)轉(zhuǎn)向過剩,部分領(lǐng)域跌價(jià)跌得厲害,芯片價(jià)格下滑也會(huì)影響廠商的生產(chǎn)計(jì)劃,最終導(dǎo)致的結(jié)果就是ASML一度供不應(yīng)求的EUV光刻機(jī)今年出貨量減少15臺(tái)。

ASML昨天發(fā)布了2022年Q2季度財(cái)報(bào),當(dāng)季凈銷售額為54.31億歐元,較上年同期同比增長(zhǎng)35%。凈利潤(rùn)較上年同期同比增長(zhǎng)36%。

雖然業(yè)績(jī)大漲,但是ASML對(duì)全年的預(yù)期更加悲觀,從之前預(yù)期增長(zhǎng)20%下調(diào)到了增長(zhǎng)10%,其中一個(gè)重要原因就是EUV光刻機(jī)的出貨量預(yù)期大砍。

此前據(jù) BusinessKorea 報(bào)道,三星已就引進(jìn)今年生產(chǎn)的 EUV 光刻設(shè)備和計(jì)劃于明年推出的 High-NA EUV 光刻設(shè)備達(dá)成了協(xié)議。High-NA EUV 是下一代光刻設(shè)備,與現(xiàn)有的 EUV 光刻設(shè)備相比,可以雕刻出更精細(xì)的電路,其被認(rèn)為是一個(gè)改變游戲規(guī)則的設(shè)備,將決定 3 納米以下代工市場(chǎng)技術(shù)競(jìng)賽的贏家。

據(jù)悉,ASML現(xiàn)有的英特爾、臺(tái)積電、三星這些大客戶都預(yù)訂了NA EUV光刻機(jī),為將來量產(chǎn)2nm及以下芯片做準(zhǔn)備。





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